近日,新思科技(Synopsys)宣布,在双方的长期合作中,三星晶圆厂(以下简称"三星")已经通过公司数字和定制设计工具和流程成功实现了多次测试流片,从而更好地推动三星的3纳米全环绕栅极(GAA)技术被采用于对功耗、性能和面积(PPA)要求极高的应用中。新思科技表示,与三星SF5E工艺相比,采用三星晶圆厂SF3技术的共同客户将实现功耗降低约50%,性能提高约30%,面积缩小30%左右。此外,新思科
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近日,新思科技(Synopsys)宣布,在双方的长期合作中,三星晶圆厂(以下简称"三星")已经通过公司数字和定制设计工具和流程成功实现了多次测试流片,从而更好地推动三星的3纳米全环绕栅极(GAA)技术被采用于对功耗、性能和面积(PPA)要求极高的应用中。新思科技表示,与三星SF5E工艺相比,采用三星晶圆厂SF3技术的共同客户将实现功耗降低约50%,性能提高约30%,面积缩小30%左右。此外,新思科
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据丽水发布消息,11月2日,丽水中欣晶圆大直径硅片外延项目建设正式宣告竣工,即将进入试产阶段。消息显示,丽水中欣晶圆大直径硅片外延项目总投资40亿元,首期建设项目年产120万片8英寸(以特殊需求外延片为主)、年产240万片12英寸外延片,未来可扩产至8英寸年产240万片、12英寸年产360万片,预计2024年全部达产后可实现年产值50亿元。该项目是2022年浙江省重点建设项目以及2022年丽水市重
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据韩媒首尔经济日报引述产业人士消息,尽管全球经济减缓,但三星电子明年仍将扩大DRAM与晶圆代工的晶圆产能,并且新增多台EUV极紫外光微影曝光设备。DRAM方面,三星计划扩增其位于韩国平泽P3晶圆厂的DRAM产能。目前,三星P3厂DRAM产线的月产能为2万片12英寸晶圆,而三星计划通过扩增DRAM设备,将该厂的DRAM产能每月增加至7万片12英寸晶圆。不久前,三星宣布推出了业界最先进12纳米级高性能
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